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第24章 分布任务着手研发（第2页）

不说那繁琐的步骤，就说很多器械，也不是他一个人能操作的。

而且，别看源计划项目组的人很多。

但真要将任务分配出去，这点人，还远远不够。

众所周知，光刻机是一种用于芯片制造的关键设备，也被称为曝光机。

光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。

集成电路就是由投影曝光装置制成的，将具有不同掩模图案的图形成像至基底上，制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电等一系列结构。

在集成电路制造工艺中，光刻是决定集成电路集成度的核心工序，在整个硅片加工成本中占到13，可以说是半导体制造中最重要的一步。

所以，光刻机的纳米程度，决定了最后的芯片能达到何等高度。

粗略看了一下名单后，李星的心里，已经有了大致的规划。

现场总共有二十多位工程师。

但大家所侧重的方面，都不一样。

比如，其中有超过一半的工程师，研究所侧重的点，属于紫外光源方面。

而只有少部分工程师，研究的重点在对准系统上。

光刻机其实看似简单，只有两个核心部分，紫外光源和对准系统。

但零部件却高达上万。

这些零部件，都有极高的要求，稍微有一个地方出错，就满盘皆输。

有几个最关键的部分，是大多数国家无法造出光刻机的原因。

比如光源。

光刻机要求发出的光源，必须足够‘纯净’和‘稳定’。

也就是说，光源必须发出能量且稳定。

并且，光谱必须是很窄很窄的紫光，这样才能保证加工精度和精度的稳定性。

还有一个难点，就是测量台和曝光台的移动控制。

因为两个部件是联动的，所以二者的移动同步性和精确性要求十分高，要达到纳米的精度。

因此，对控制移动的超精度测量器与控制技术，要求极高。

还有一点就是物镜。

犹豫加工的对象是纳米量级的精度，所以物镜对制造材料和制造精度都有极高的要求。

其中包括材料的纯度，镜面曲度的加工精度，抛光度、镜片厚度的均匀度等。

在心里大致罗列了一下技术难点后，李星看向了众多工程师。

“诸位，解下来我的这个决定，大家可能会觉得不舒服！”

“但我希望，诸位能按照我的意思来，想要研发出1纳米光刻机，需要诸位的齐心协力！”